Dr. David Wang ( 王宁国 )

Dr. David Wang ( 王宁国 )，硅谷杰出工程师名人堂得主。等离子刻蚀（ Etch ）和CVD技术及助推摩尔定律稳步推进的相关设备和技术的开创者和发明者。拥有超过100项专利。他是第一位获得SEMl终身成就奖荣誉的科学家。王宁国博士早期在美国贝尔实验室开始他在等离子刻蚀和CVD以及光刻技术的研究。1980年加入美国应用材料公司，主导开发成功AME8100和AME8300等离子刻蚀系统，在不到四年的时间里，使应用材料公司在干法刻蚀市场的占有率实现了零的突破並超过了50％。之后，王博士研发的TEOS Oxide沉积工艺及设备，解决了多层金属导线的Step coverage 的技术挑战。推进了半导体工艺的微细化的进程。1993年任应用材料全球执行副总裁，主导公司的市场发展战略，建立起全球性的营运机制，率先实现了应用材料公司特有的全球客户管理体系。同时还创新建立了＂全方位解决方案＂的理念，最大限度的满足全球客户的需求。带动公司的营业额在2000年創记录的突破100亿美元。2004年荣任应用材料公司亚太区总裁，继续推动亚太地区的业务发展。王博士开发了半导体产业界最成功的P5000等离子刻蚀和CVD系统。该设备在1993年被位于美国首都华盛顿的史密斯国家科技馆收藏作为永久收藏品。王博士2005年加入华虹集团任首席执行官兼华虹NEC董事长，2009年加入中芯国际任总裁兼首席执行官。2016－2018任合肥长鑫存儲董事长兼首席执行官。2017年王宁国博士入选美国硅谷杰出工程师协会名人堂．王宁国博士是美国加州伯克利大学的材料科学和工程技术的博士。2025年11月成为联盟荣誉顾问。